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電鍍鍍液大處理

發布日期:2012-09-10

  按照有機添加劑的還原理論,添加劑在陰極上被還原對鍍層起光亮作用,同時,被還原的添加劑也就成了鍍液中的雜質。用活性炭處理只能除去一部分有機雜質,一些較大分子的有機物不易被活性炭吸附,當不易被活性炭吸附的有機雜質積累過多時,需對鍍液進行大處理。用氧化法處理,將較大的有機物分子氧化成小分子,然后用活性炭吸附,才能滿足電鍍鍍鎳工藝的要求。

  處理鍍鎳溶液中的有機雜質,一般選用高錳酸鉀或雙氧水作氧化劑。實驗表明,高錳酸鉀被還原成Mn和二氧化錳,二氧化錳沉淀能過濾出去,Mn留在鍍液中,鍍鎳層容易長毛刺。雙氧水的氧化能力較弱,對有機雜質的氧化不夠徹底,而且,過量的雙氧水不易分解。過硫酸鈉的氧化性較強,還原產物硫酸根對鍍鎳溶液無影響。向鍍鎳溶液中加2.5g/L過硫酸鈉,在55—60℃保溫2~3h。用氫氧化鈉溶液調節pH=4.3—4.7,鐵離子完全生成氫氧化鐵沉淀,加活性炭吸附,6h后過濾。用霍爾槽試驗確定光亮劑的補加量,向鍍槽中補加光亮劑。

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